前言
在全球功率半導體產業追求更效率功率半導體遷移的浪潮中,技術與資本的激烈角逐持續上演。近期,行業內新動作不斷涌現,從性能卓越的新品發布到大規模的產能擴張,從資本的深度并購到關鍵技術的突破,功率半導體賽道正展現出前所未有的蓬勃活力。為幫助廣大讀者及時掌握功率半導體行業的新品最新動態,我們精心梳理了近期的突出新品案例,接下來小編將為您深入解析。
本文排序不分先后,按品牌英文首字母順序排列。
CRMICRO華潤微
華潤微第6代高性能SGT MOS產品
華潤微近期針對Ai服務器、DC-DC以及磚塊電源等領域推出25V SGT MOSFET產品CRSK010NE2L6,該芯片UIS性能優異、開關損耗低。
相比上一代產品,CRSK010NE2L6在Ciss、Crss、Rg以及體二極管軟度等方面顯著優化,可為MHz級高頻電源領域提供更高效、更可靠的解決方案。實際參數上,該產品采用DFN3×3封裝,耐壓25V,連續漏電流160A,導阻最高1.5m歐姆。
Infineon英飛凌
英飛凌推出650V MOSFET
英飛凌推出全新650V CoolMOS 8系列芯片,芯片為高功率應用提供50V電壓裕量,滿足數據中心、電信等應用交流輸入電壓提升需求,還為電動汽車充電和固態斷路器應用增強浪涌保護。該系列集成快速體二極管,適用多種高功率場景,是 CoolMOS 7 MOSFET 的理想升級選擇,產品型號豐富。
其具備低導阻、出色的換向耐用性、先進互連技術及完整產品組合,采用8mΩ BiC頂部散熱封裝設計。競爭優勢明顯,反向恢復電荷性能提升,反向恢復時間較同類縮短 35%,采用 QDPAK 等頂部散熱封裝技術,品質卓越??珊喕O計、縮短開發周期,產品線清晰,推動系統級創新,廣泛應用于數據中心、電信設備、超固態解決方案、電動汽車充電、不間斷電源及工業SMPS等領域。
Innoscience英諾賽科
英諾賽科推出頂部散熱Dual-Cool GaN,顯著提升系統熱性能
英諾賽科的Dual-Cool系列氮化鎵的主要優勢在于其采用了先進的Dual-Cool En-FCLGA封裝,傳統單冷卻封裝因熱路徑單一,易形成局部熱點,而En-FCLGA封裝由于雙面散熱架構的引入,通過頂部與底部的協同散熱設計,較同類單面散熱方案提升65%的導熱效率。這一改進直接降低了器件的工作結溫,顯著提升系統熱性能,有助于實現更高的功率密度。
Dual-Cool系列氮化鎵的另一大亮點是其先進的100V E-mode GaN 技術。該技術賦予了產品極低的柵極電荷以及更低的導阻。同時,其占板面積非常小,能夠有效節省PCB空間,滿足現代電子設備對小型化的需求。
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Navitas納微
納微推出極佳耐高溫表現和高穩定性SiCPAK功率模塊
納微全新SiCPAK功率模塊采用環氧樹脂灌封技術,結合納微獨家的 “溝槽輔助平面柵” 碳化硅MOSFET技術,歷經嚴苛設計及全面驗證流程,專為高功率環境中的穩定運行打造,可靠性與耐高溫性能更優。
納微SiCPAK功率模塊內置NTC熱敏電阻,提供多種產品組合,提供4.6-18.5mΩ規格可選,封裝提供SiCPAK F以及SiCPAK G可選,同時對應半橋、全橋、光伏三項逆變等不同電路配置場景,與行業標準壓接式模塊可實現引腳對引腳兼容,另可選配預涂導熱界面材料(TIM)以簡化組裝流程。
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PI
PI發布HiperLCS-2芯片組
PI HiperLCS?2?離線式?LLC?開關IC芯片組由集成高帶寬?LLC?控制器、同步整流驅動器和?FluxLink?隔離鏈路的隔離器件HiperLCS2?SR與采用600?V?FREDFET?半橋功率器件?HiperLCS2?HB?構成,借助全新?POWeDIP?封裝及電絕緣陶瓷導熱墊,可實現高達1650?W?連續輸出,峰值更是可達2450?W,效率超過98%,空載功耗低于65?mW,且無需風扇或通風設計。
器件在400?V?DC輸入下可提供出色的0%–100%動態響應,同時相較于分立式方案元件數與PCB面積最多減少60%,通過自供電啟動功能還可為后級?PFC?芯片提供偏置電源,極大提升工業電源及戶外電動工具充電器的可靠性、防塵防潮性能和散熱簡便性。
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1、為多場景電源需求提供新選擇,PI發布TinySwitch-5與HiperLCS-2芯片組
Renesas瑞薩
瑞薩發布新一代650V GaN FET
瑞薩電子基于 Gen IV Plus 平臺推出三款新型高壓 650V GaN FET,型號分別為 TP65H030G4PRS、TP65H030G4PWS 和 TP65H030G4PQS,提供 TOLT、TO-247 和 TOLL 三種封裝。
以 TP65H030G4PRS 為例,其為 30mOhm、650V GaN 器件,采用符合 JEDEC 標準的 GaN 技術,經低動態電阻Dynamic RDS(on) eff 驗證,擁有零反向恢復電荷,可減少分頻損耗,提升硬開關和軟開關電路效率,進而提高功率密度、減小系統尺寸和重量、降低成本,適用于AI數據中心和電信電源、電動汽車充電等多領域。三款產品封裝緊湊,能滿足1kW至10kW電源系統熱性能與布局優化需求,且可并聯組成更高功率電源系統,其中TOLL和TOLT封裝利于散熱及并聯,TO-247封裝則可實現更高功率。
ROHM羅姆
羅姆推出AI服務器適用100V MOSFET
羅姆公司新推出100 耐壓的功率MOSFET——RY7P250BM,尺寸為8×8mm,未來需求看漲且能輕松替換現有產品。它兼具寬 SOA 范圍和低導通電阻,保障熱插拔工作可靠性并優化電源效率、降低功耗發熱量,在 AI 服務器 48V 電源熱插拔電路等場景應用優勢明顯。
RY7P250BM的SOA范圍在脈寬10ms時可達 16A、1ms 時達 50A,性能業界領先。與普通同尺寸同耐壓 MOSFET 相比,其導通電阻僅 1.86mΩ(VGS=10V、ID=50A、Tj=25℃),降低約 18%。這大幅減少功率損耗、發熱量,提升電源效率,緩解冷卻負荷、削減電力成本。
Vishay威世
威世推出新款80V TrenchFET Gen IV N 溝道功率 MOSFET
Vishay推出80V TrenchFET Gen IV N溝道功率MOSFET——SiEH4800EW,具備更低導阻。這款采用無引線鍵合(BWL)封裝的MOSFET,在10V下導通電阻為0.88mΩ,有效降低功率損耗,提升效率;其最大熱阻低至 0.36 ℃/W,大幅改善熱性能。8×8mm尺寸新品與TO-263封裝MOSFET相比PCB面積減少50%,厚度僅1mm。
SiEH4800EW焊盤融合設計,源焊盤可焊面積達3.35 mm²,較傳統PIN焊接面積大四倍,降低電流密度,減少電遷移風險。其側翼易于吸附焊錫,提高可焊性和焊點可靠性。這款MOSFET 非常適合同步整流和Oring應用,典型應用于電機驅動控制器、電動工具等工業設備,可在 +175 ℃高溫下工作,BWL 設計降低寄生電感,提升電流能力,且符合RoHS標準,無鹵素,經過 100%Rg和UIS測試。
XYD芯一代
芯一代推出60V SGT MOS XK1P2N060GX1A
XK1P2N060GX1A為屏蔽柵溝槽型 MOSFET(SGT MOS),。其耐壓大于 60V,導通電阻典型值 Rds(on)僅為 1.2mΩ,相比同類產品,展現出低比導通電阻的特點。同時,該產品具備低密勒電容,開關速度快,在高頻開關情況下損耗低。在電性參數上,其優秀的電容和 Qg 特性,使得開關時間較短且損耗較小,擊穿電壓穩定達到 60V 以上,具備工業級的高可靠性。
在應用領域方面,本產品可廣泛適用于儲能電源、電機控制、電動工具、無人機、服務器、數據中心電源、快充電源適配器等行業。得益于其低導通電阻、低開關損耗等優勢,能夠滿足這些領域對高效能、高可靠性電子元件的需求,為相關設備的穩定運行和性能提升提供有力支持。
YJ楊杰
楊杰推出SGT工藝N60V MOSFET新品
揚杰科技近期隆重推出專為清潔能源領域打造的N60V MOSFET系列產品。該系列產品運用特殊優化的 SGT 技術,在降低導電和柵極電荷方面表現出色,顯著減少了導通和開關過程中的損耗,同時有效提升了 MOSFET 抗沖擊電流的能力,使其成為高功率密度與高效率電力電子變換系統的理想選擇。
產品具有諸多亮點。首先,采用優化的 SGT 工藝,內阻低且開關特性優異。其次,具備耐高溫特性,能在 175℃的工作溫度下穩定運行,同時擁有出色的散熱性能和良好的溫升表現。在封裝方面,采用 TOLL、TO-263 等封裝形式,適用于 BMS 等大功率應用場景。此外,針對工控應用的多種復雜工作狀態,對MOS產品EA 能力進行優化,大幅提高了產品的可靠性,可在BMS、DC-DC、儲能、光伏微逆等領域應用。
充電頭網總結
功率半導體行業正不斷突破升級。從低電壓到高耐壓,從高導阻到低損耗,各品類產品持續優化,封裝工藝日益精湛,應用場景也愈發廣泛。每一次技術演進,都為電源系統效率與可靠性帶來質的飛躍,推動著數據中心、新能源汽車、工業設備等多領域快速發展。隨著研發深入與創新加速,功率半導體還將不斷迭代,為全球電子產業注入強大動力,引領行業邁向更高臺階。
以上便是本次多款功率器件新品匯總的全部內容,如您需要持續了解功率半導體行業風向,您可以關注充電頭網,我們將會持續為您整理業界最新動向。
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